| Наименование показателя | Норма |
| Толщина светочувствительного слоя, мкм | 50* |
| Толщина полиэтилентерефталатной основы, мкм | 20 |
| Толщина защитной полиэтиленовой пленки, мкм | 35 |
| Эффективное время экспонирования в области спектра 320-420 нм, с, не более | 30 |
| Энергия экспонирования, мДж/кв.см | 150-180 |
| Разрешающая способность (минимальная ширина между соседними электропроводящими дорожками), мкм | 120 |
*По согласованию с заводом-изготовителем возможен выпуск МПФ-ВЩ с другой толщиной светочувствительного слоя.
Гальваностойкость экспонированного фоторезиста обеспечивает качественное осаждение слоя металла из электролита с рН менее 7. Химическая стойкость экспонированного фоторезиста обеспечивает обработку в растворах с рН до 10 в течение минуты и более при температуре раствора 18–25°С.
Фоторезист выпускается в рулонах шириной 200, 300, и 600 мм, длиной по 70 м.